JOURNAL ARTICLE
Maskless Lithography
Avakaw Syarhei M.Plebanovich Vladimir I.
Year: 2018 Journal: Nanoindustry Russia Pages: 200-202 Publisher: JSC Technosphera
Abstract
Наряду с массовым производством все чаще возникает потребность в индивидуальном подходе при производстве интегральных микросхем (ИМС).Десятилетиями складывающаяся технология производства ИМС не подразумевает индивидуального производства.Наличие фотошаблона (маски) подразумевает многократное повторение одного и того же изделия
Keywords:
Maskless lithography Lithography Materials science Nanotechnology Optoelectronics Electron-beam lithography Resist
Metrics
0
Cited By
0.00
FWCI (Field Weighted Citation Impact)
0
Refs
0.27
Citation Normalized Percentile
Is in top 1%
Is in top 10%
Topics
Advancements in Photolithography Techniques
Physical Sciences → Engineering → Electrical and Electronic Engineering
Related Documents
JOURNAL ARTICLE
Maskless lithography
Rajesh MenonAmil PatelDarı́o GilHenry I. Smith
Journal: Materials Today Year: 2005 Vol: 8 (2)Pages: 26-33
JOURNAL ARTICLE
Maskless lithography
Journal: Microelectronic Engineering Year: 2005 Vol: 78-79 Pages: 381-392
JOURNAL ARTICLE
Projection maskless lithography
C. BrandstätterHans LoeschnerG. StenglG. LammerH. BuschbeckElmar PlatzgummerHans-Joachim DöringThomas ElsterOlaf Fortagne
Journal: Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE Year: 2004 Vol: 5374 Pages: 601-601