Deposition Properties of NiCr Thin Films Prepared by Thermal Evaporation

Abstract

NiCr 합금을 열증발원으로 사용한 thermal evaporation법으로 NiCr 박막을 Al₂O₃/Si 기판 위에 증착시켰다. 이 때 동일한 량의 NiCr 합금을 1회에 모두 증착하는 방법과, 1/2씩 2회 증착하는 방법으로 NiCr박막을 각각 증착시켜, 박막의 미세구조에 따른 막의 특성변화를 고찰하였으며, 열처리 온도에 따른 NiCr 박막의 상 변화, 조성변화 및 미세구조 변화를 XRD, AES 및 FE-SEM으로 각각 분석하였다. 열처리 과정에서 박막내부에 존재하는 Cr 성분이 표면 쪽으로 확산하여 산화됨으로써 Cr 산화층/Ni 층/Cr 산화층의 전형적인 다층구조를 형성함을 알 수 있었으며, 특히, 700℃ 이상에서는 Ni 층이 Cr 산화층을 통하여 표면 쪽으로 확산됨으로써 표면에 원주형 결정립을 가지는 NiO 층을 형성하였다. 특히 Ni 층이 확산 전의 구조를 유지한 채 표면에 추가적인 NiO 층이 형성되는데, 이는 형성된 Cr 산화층의 확산이 상대적으로 Ni 층에 비하여 어려운데 기인한다.